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获取需要管理员创建IAM用户后,将其加入用户组,并给用户组授予策略或角色,用户组中的用户也相应的获得对应的权限;仓库角色可以由拥有tenant administrator用户角色的用户进行分配,详细操作请参见管理私有依赖库中的管理用户权限章节,更细粒度权限管理请参见管理私有依赖库中的管理用户权限章节后的权限列表。
用户管理 重置用户密码 父主题: API
文件管理 查询仓库文件夹目录 查询仓库文件详情 非maven删除文件 父主题: API
仓库管理 创建maven仓库 编辑仓库 查看仓库信息 创建docker仓库 删除仓库到回收站 查询租户Maven仓库列表和账号密码 创建非maven仓库 编辑非maven仓库信息 父主题: API
管理私有依赖库2.0中的组件 通过私有依赖库查看私有组件 通过私有依赖库编辑私有组件 父主题: 管理私有依赖库2.0
管理私有依赖库1.0中的私有组件 通过私有依赖库上传私有组件 通过私有依赖库查看私有组件 通过私有依赖库编辑私有组件 父主题: 管理私有依赖库1.0
发布库文件管理 彻底删除文件/文件夹 分页查询构建归档包列表 父主题: API
安全 责任共担 身份认证和权限管理 数据保护技术 审计 服务韧性 更新管理 认证证书
设置软件发布库2.0的清理策略 软件发布库中存放的文件如果已冗余或已失效不再使用,可通过定时自动清理策略自动将超时的文件从仓库移动至回收站,或者将废弃文件从回收站内彻底清除,有助于用户更有序高效的管理软件发布库中的文件。 设置清理策略 单击项目卡片进入项目,单击菜单栏“制品仓库 >
配置软件发布库2.0的权限 新增的成员需赋予指定的角色,才可以正常的使用制品仓库服务。在软件发布库中,不同的项目角色对应的操作权限不同。拥有“权限设置”操作权限的成员可以对权限范围进行编辑。 参考添加CodeArts项目成员添加成员,为新增的成员赋予角色。 单击项目卡片进入项目,单击菜单栏“制品仓库
收站彻底删除”的开关,在下拉列表中选择保存时间。 服务默认保留的时间为: 从发布库放入回收站:15天。 从回收站彻底删除:15天 如果列表中的选项不满足需要,可以自定义时间,单击“自定义”,输入数字,单击“√”保存。 以下为非必填项: 忽略“生产包”状态的文件:系统进行文件清理时将保留“生产包”状态的文件。
管理私有依赖库1.0 查看私有依赖库基本信息并配置仓库路径 配置私有依赖库覆盖策略 配置CodeArts Artifact中的Maven仓库的清理策略 关联CodeArts Artifact中的Maven仓库与项目 父主题: 管理私有依赖库1.0
管理私有依赖库2.0 查看私有依赖库基本信息并配置仓库路径 配置私有依赖库覆盖策略 配置CodeArts Artifact中Maven仓库的清理策略 关联CodeArts Artifact中的Maven仓库与项目 父主题: 管理私有依赖库2.0
管理私有依赖库1.0 访问私有依赖库1.0 配置私有依赖库1.0 管理私有依赖库1.0 管理私有依赖库1.0中的私有组件 管理私有依赖库1.0回收站 设置私有依赖库1.0与本地开发环境对接
管理私有依赖库2.0 私有依赖库2.0的简介 新建私有依赖库2.0 配置私有依赖库2.0权限 管理私有依赖库2.0 通过私有依赖库页面上传/下载私有组件 通过客户端上传/下载私有组件 管理私有依赖库2.0中的组件 管理私有依赖库2.0回收站
Hat公司提出,被众多Linux发行版本所采用,是一种以数据库记录的方式来将所需要的软件安装到到Linux系统的一套软件管理机制。 一般建议使用以下规范打包命名RPM二进制文件。 软件名称-软件的主版本号.软件的次版本号.软件的修订号-软件编译次数.软件适合的硬件平台.rpm 例如:hello-0.17
管理软件发布库1.0 访问软件发布库1.0 管理软件发布库1.0中的软件包 设置软件发布库1.0的清理策略 管理软件发布库1.0回收站
管理软件发布库2.0 软件发布库2.0的简介 配置软件发布库2.0的权限 上传软件包到软件发布库2.0 管理软件发布库2.0中的软件包 设置软件发布库2.0的清理策略 管理软件发布库2.0回收站
管理软件发布库2.0回收站 在软件发布库删除的软件包/文件夹都会移到回收站,可以对删除后的软件包/文件夹进行管理。 制品仓库服务提供“总回收站”和“项目内回收站”。 总回收站 总回收站可以对所有项目删除的软件包/文件夹进行管理。 访问制品仓库服务首页。 选择软件发布库页签,单击“回收站”。
华为云CodeArts Artifact服务丰富了常用语言的制品库管理,实现制品开源合规扫描、制品生命周期管理、高效查看和搜索、自定义代理仓库和聚合仓,持续为客户提供全面、高效、可信的制品管理。 提供自研、安全、极致性能的制品仓,保障业务连续性不中断 CodeArts Artif